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本发明公开了一种精密铸造用氧化锆坩埚，其特征在于，包括以下质量百分比的组分：10%～25%的150μm电熔单斜锆粉，10%～25%的150μm电熔稳定锆粉，5%～15%的75μm电熔单斜锆粉，5%～15%的3μm电熔单斜锆粉，5%～15%的0.8μm单斜锆粉，15%～25%的1.0μm化学镁稳定锆，3%～8%的0.8μm化学钇稳定锆和1%～4%的氧化镁。同时，本发明还公开了上述精密铸造用氧化锆坩埚的热处理方法。